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Cathode

스퍼터링 장비에서 가장 중요한 기술은 cathode 기술입니다. Cathode의 성능이 곧 품질 및 양산성에 중요한 영향을 줍니다.

씨앤아이테크놀로지는 자체적으로 자기장 시물레이션을 통해 고객이 원하는 공정에 맞는 최적의 cathode를 개발 및 제작하여 제공하고 있습니다.

Rotatable cathode : CMC-RT

씨앤아이테크놀로지는 국내 최초 Rotatable cathode 양산화에 성공하였습니다. 원통형 타겟을 이용하여 고효율 스퍼터링이 가능합니다.

주요 특징
  • Easy to maintenance design with high reliability
  • Variable sputtering incident angle : 18˚ ~ 30˚
  • Supply customized magnet bar to fit process requirements
  • Variable sputtering tilting angle : 0˚ ~ 60˚
  • Patented dual magnet design for high efficiency
  • Thickness Non-uniformity : < ±5% (@ All layer)
  • Target erosion efficiency : ≥ 80%
  • Uniformity of RTR : ≤ ±3%
Rotatable cathode : CMC-RT 이미지
Rectangular cathode : CMC-R

Rectangular cathode는 가장 광범위하게 사용되고 있는 제품으로 다양한 크기의 cathode 제작이 가능합니다.

주요 특징
  • Target width : ~ 200mm
  • Multi-zone gas supply
  • Target length : ~ 3,000mm
  • Mass flow control for process gas
  • Target erosion efficiency : ≥ 40%
  • RF, DC, Pulsed DC compatible
  • Metal & oxide Target
Rectangular cathode : CMC-R 이미지
Moving magnetron cathode : CMC-M

Moving magnetron cathode는 magnet array가 servo motor 또는 rotary actuator에 의해 타겟 배면을 scanning하여 대면적 타겟에 대한 고효율 스퍼터링이 가능합니다.

주요 특징
  • High target erosion efficiency : ≥ 60 %
  • RF, DC compatible
  • Widest range target available : ≥ 200㎜
  • Cooling path imbedded backing plate for high cooling efficiency
  • Magnet block control by servo motor
  • Imbedded gas supply unit
Moving magnetron cathode : CMC-M 이미지
Dual magnetron cathode : CMC-D

Dual magnetron cathode는 두 개의 타겟이 대칭적으로 구성되어 있으며, 각각의 타겟에 대해 독립적인 파워인가가 가능합니다.

주요 특징
  • Target erosion efficiency : ≥ 40%
  • Middle frequency power supply
  • Cathode for reactive sputter
  • Direct cooling on magnet block without magnet corrosion
  • Two magnetron with an asymmetric magnetic design
Dual magnetron cathode : CMC-D 이미지
Circular cathode : CMC-C

2 ~ 14 inch까지 다양한 크기의 circular cathode 기술을 보유하고 있습니다. 특히 타겟 중심부의 re-depo area를 제거하여 plasma arcing 및 particle 이슈를 억제하여 하였습니다.

주요 특징
  • Target erosion efficiency : > 40 %
  • Uniformity : ≤ 5 %
  • RF, DC, Pulsed DC compatible
  • Metal & oxide target
  • Target size : 4~16 inch
Circular cathode : CMC-C 이미지